Система фотолюминесцентного картографирования MAPLE-2H

MAPLE-2H - является 4-ым поколение ручных систем фотолюминесцентного картографирования (PL mapping), предназначенных для использования при производстве светоизлучающих диодов (LED).

Система MAPLE-2H помимо высокой скорости работы, производительности, надежности, безопасности  обладает рядом качеств, выделяющих установку среди конкурентов: высокая скорость картографирования, позволяющая обработать пластину диаметром 2 дюйма с шагом 2 мм за менее, чем 30 сек, различный спектрометрический контроль, а также возможность выбора различных лазеров, универсальные сменные фотофильтры и возможность управления нейтральным светофильтром, одновременные измерения и анализ фотолюминесценции, толщины пленки и коэффициента отражения, разделение двойного ФЛ-пика, возможность редактирования параметров измерительного приемника, функция исключения края, высочайшее разрешение управления шагом (0,1/0,5/1/2/4 мм), тихая работа моторизованного столика, использование высоко чувствительный линейный массив ПЗС-детекторов, позволяющий проводить точные измерения, автоматической мониторинг мощности лазера, запись истории работы, контроль безопасности пользователя, фильтрация преобразованием Фурье для удаления не желаемых сбоев, возможность наблюдения за образцом с помощью ПЗС-камеры, управление путем луча, управление мощность лазера.

Применения:

Контроль качества при производстве светодиодов (LED)

Контроль качества при производстве лазерных диодов

Фотолюминесцентное картографирование эпитаксиальных структур

Общие фотолюминесцентные измерения

Измерения фотолюминесценции материалов группы А3В5

Измерение толщины тонких пленок

Флюоресценция

Спецификация системы:

Спектрометр (VIS/NIR)

 

     Спектрометр VIS (ВИД)

 

          Низкошумная ПЗС линейка

2048 / 3648 (опционально) пикселей

          Диапазон длин волн

200 ~ 1100 нм

          Разрешение

1 нм при щели 10 мкм с 600 гр/мм

     Спектрометр NIR (БИК)

 

          Низкошумная ПЗС линейка

512 пикселей

          Диапазон длин волн

900 ~ 1700 нм

          Разрешение

2 нм при щели 10 мкм с 150 гр/мм

Лазер

 

          Доступные длины волн

опционально: 266 нм, 325 нм, 375 нм, 405 нм, 442 нм, 532 ннм, 658 нм, 785 нм, 1064 нм

          Максимальное количество лазеров

опционально: до 3 лазеров

          Возможность управления мощностью с ПК

зависит от модели лазера

          Мониторинг

мониторинг с помощью ПО интерфейса

Устройство измерения толщины пленки

(опционально)

          Принцип

Рефлектометрия

          Источник света

Вольфрамовая галогеновая лампа (100 Вт)

          Диапазон толщин пленки

1 мкм – 15 мкм

          Разрешение

1 мкм

Высокоскоростной моторизованный стол

 

          Загрузка

Ручная загрузка на вакуумный держатель

          Ориентация

Оси X и Y

          Разрешение

0,2 мм

          Поддерживаемы размеры пластин

2”, 4”, 6”, 8” (опционально)

          Скорость картографирования

          (в зависимости от типа спектрометра)

VIS: 2” 30 сек. при шаге 2 мм, экспозиции 30 мс

NIR: 2” 40 сек. при шаге 2 мм, экспозиции 30 мс

Программное обеспечение

 

          Протокол управления

SECS-GEM

          Аналитические параметры

Пик λ, преобладающая λ, пиковая интенсивность, полная ширина на уровне половинной амплитуды (FWHM), интегральная интенсивность, толщина (опционально), коэффициент отражения (опционально)

Измерения ФЛ, толщины, коэффициента отражения

Одновременные измерения (опционально)

Точность измерения ФЛ

< 1 нм

Система обработки данных

 

          Основная плата

Intel Core2DUO E7500 (2,93 ГГц) 2 Гб

          Дисплей

Диагональ 21”, full HD, LED

Механические характеристики

 

          Физические размеры (ШхВхГ)

800х600х800 мм

          Масса оборудования

< 80 кг.

          Вакуум

50-60 мм.рт.ст.

Электрические характеристики

 

          Входное напряжение

1 фаза, 220 (+/- 10%), 60 Гц

          Полная потребляемая мощность

2,5 кВт

Характеристики помещения

 

          Чистое помещение

Класс 10000

          Температура

15~35 °С

          Влажность

< 80% о.в. без конденсации

Безопасность

Интерлок двери

Аппаратные средства системы:

Автоматизация

 

          Высокоскоростной моторизованный стол

Тихий высокоскоростной столик в осях X-Y картографирует пластину диаметром 2” за 30 сек при шаге 2 мм и времени экспозиции 30 мсек.

          Разрешение нормального шага

0,5/1,0/1,5/2,0 мм

          Протокол управления

SECS/GEM (опицонально), запатентованный FTP (опционально)

          Емкость

Одна система Maple-2H может покрыть более, чем 10 MOCVD систем

Мощный спектрометр

 

          Спектрометр VIS (ВИД)

200 ~ 1100 нм, 2048 пикселей, разрешение 1 нм при щели 10 мкм с 600 гр/мм

          Спектрометр NIR (БИК)

900 ~ 1700 нм, 512 пикселей, разрешение 2 нм при щели 10 мкм с 150 гр/мм (опционально)

Чувствительный детектор

 

          Низкошумная линейная ПЗС матрица

Высокочувствительная низкошумная линейная ПЗС матрица с 2048 / 3648 (опционально) пикселей для видимого диапазона и 512 пикселей для БИК диапазона (опционально)

Широкий выбор лазеров

 

          Поддержка нескольких лазеров

Может быть использовано максимум 3 лазера (опционально)

          Поддерживаемые длины волн

375 нм.

опционально: 266 нм, 325 нм, 375 нм, 405 нм, 442 нм, 532 ннм, 658 нм, 785 нм, 1064 нм

          Мониторинг мощности с помощью ПК

Мощность лазера постоянно мониториться через определенные промежутки

          Управление мощностью

Мощность лазера постоянно контролируется и калибруется для поддержания его постоянного уровня (зависит от модели лазера)

Масштабируемый фильтровальный механизм

 

          Фильтровальное колесо

Фильтровальное колесо позволяет покрыть широкий диапазон лазеров (опционально)

          ND фильтр

Переменный нейтрально-серый фильтр позволяет точно контролировать интенсивность мощности лазера (опционально)

          FFT фильтр

Убирает ненужные края и сбои для сглаживания результатов

Вспомогательные параметры питания

 

          Защита по мощности

Защита в течение 1,5 минут в случае проблем с мощностью или выключения питания (опционально)

          ИБП

Необходимость источника питания определяется пользователем (опционально)

ПЗС-отображение

Возможна опция наблюдения за образцом с помощью ПЗС-мониторинга

 

Программное обеспечение:

 

 

Программное обеспечение для осуществления измерений

 

Одновременные измерения

Фотолюминесценция, толщины и коэффициент отражения – совместно измеряются и анализируются на одном дисплее (опционально)

Интенсивность ФЛ в реальном времени

Интенсивность ФЛ в реальном времени и гистограмма отображаются на дисплее параллельно.

Редактор токоприемника

Мощный редактор, который позволяет создавать Ваш собственный токоприемник и наблюдать за ним через пользовательский интерфейс.

Изоляция двойного пика

Интеллектуальное отделение главного пика от пиков, навлекаемых из слоя, смежного с мульти квантовыми ямами.

Функция исключения края

Эта функция позволяет максимально использовать не исключённые области.

Запись истории

История всех операций и исключений записываются для дальнейшего анализа оператором.

Защищенный доступ

Доступ для пользователей 3х уровней (оператор / инженер / завод)

Порог / Макс. / Мин.

Пользователь определяет максимальные и минимальные пороговые значения

Измерение в точке

Может быть выбрано 9 точек

Мониторинг изображения

Можно наблюдать за образцом через экран (опционально)

Программное обеспечение для управления аппаратной частью

 

Разрешение шага

Для точных процессов пользователь определяет и управляет шагом разрешения (0,1 мм / 0,5 мм / 1,0 мм / 2 мм. / 4 мм.)

Управление столиком

Универсальное управление столиком в плоскости X-Y направлять его по 9 различным точкам

Управление фильтровальным колесом

Для соответствующего лазера выбирается нужный фильтр (опционально)

Управление нейтральным фильтром

Позволяет тонко управлять нейтральным фильтром (опционально)

Переключение спектрометров

Максимум два спектрометра может быть использовано альтернативно и соответствующий оптический путь переключается с помощью программного обеспечения

Управление мощностью лазера

В зависимости от модели лазера программное обеспечение управляет мощностью лазера