Плазмохимическое осаждение из газовой фазы Aegis-60

Модель Aegis-60 является уникальной установкой плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD), спроектированной для осаждения тонких пленок на основе кремния (SiO2, SiNx, SiOxNy, a-SixHy). 

Система предоставляется все стандартные процессы PECVD в очень компактном исполнении. Пленки с отличными показателями по однородности толщины и коэффициента отражения могут быть нанесены на 48 пластин диаметром 2”, 10 пластин диаметром 4” и 5 пластин диаметром 6”. Установка Aegis-60 имеет отличную повторяемость от загрузки к загрузке. Компьютеризованный сенсорный экран имеет удобный интерфейс для управления параметрами и сохранения рецепта процесса. Установка идеально подходит для нанесения тонких пленок при производстве сверхъярких светодиодов.

Применения:

  • Нанесение оксида кремния (SiO2)
  • Нанесение нитрида кремния (SiNx)
  • Нанесение твердых масок и пассивация
  • Нанесение скрытых слоев (CBL – процесс)

Отличительные черты системы:

  • Возможность одновременного нанесения на 48 пластин диаметром 2”, 10 пластин диаметром 4” и 5 пластин диаметром 6” за одну загрузку.  При этом система имеет компактный дизайн и занимает минимальное пространство чистого помещения.
  • Однородная скорость нанесения максимизирует производительность.
  • Полностью автоматическое управление («от одной кнопки») с возможностью ручной отмены
  • Компьютеризованный сенсорный экран имеет удобный интерфейс для управления параметрами и сохранения рецепта процесса.
  • Поддерживает непрерывное выполнение нескольких процессы, таких как процесс очистки с последующим осаждением для большей гибкости процесса.
  • Полный комплект предохранителей защищает систему и оператора во время процесса

Спецификация:

Процессная камера

  • Алюминий, внутренний диам. 600 мм., коррозионно-стойкая поверхность
  • Три смотровых окна диам. 2”
  • Контроль температуры

Электроды

Электродная структура: параллельные пластины

Верхний электрод: алюминий, диам. 460 мм, разбрызгивающая головка

Нижняя подложка: алюминий, диам. 410 мм, диаметр однородного напыления 160 мм, резистивный нагрев, 350 °С макс., PID управление.

Емкость загрузки пластин

48 пластин диаметром 2”, 10 пластин диаметром 4” и 5 пластин диаметром 6”

Источник ВЧ-излучения

13,56 МГц, 1,0 кВт, автоматическое согласование импеданса

Вакуумная система

Химическая серия, механический насос  10000 л/мин

Сухой форвакуумный насос 1200 л/мин

Внешний масляный фильтр

Система измерения давления и управления им

Емкостной монометр  1 Торр до 1000 Торр (базовое давление)

Емкостной монометр  10 мТорр до 10 Торр (процессное давление)

Газовые процессные линии

6 расходомеров (стандартно, 2 байпасных и 4 нормальных)

Управление

Полностью автоматическое (нажатие одной кнопки)  или полностью ручное управление

Предохранители для защиты оператора и системы

Хранилище рецептов (всего 100)

До 20 последовательных шагов за процесс

Настройки и процессные параметры отображаются на дисплее в течение процесса

Габариты системы

ДхГхВ: 1050мм х 1450мм х 1600мм

Опции

Дополнительные газовые линии (до 9 линий всего)

ВЧ-генератор

Турбо-молекулярный насос

Чиллер

Системы газовой очистки