Установка совмещения и экспонирования KCMA-100 / KCMA – 150

Установка предназначена для оптического переноса изображения со стеклянного фотошаблона на полупроводниковую или стеклянную пластину. Серия установок KCMA относится к оптической литографии.

Система KCMA-100 предназначена для работы с пластинами до 4”, а KCMA – 150 – для работы с пластинами до 6”. Установки имеют три режима контакта:  жесткий, мягкий и вакуумный контакты. Система имеет источник УФ-излучения мощностью 35 Вт. Оптическая мощность 25 мВт/см2 при 365 нм. Установка может быть использована как на производстве, так и в условиях университетских лабораторий при производстве полупроводниковых структур и МЭМС.

Спецификация системы:

 

KCMA-100

KCMA – 150

Тип

Ручная система с управлением посредством контроллера

Размер фотошаблона

до 5” x 5”

до 7” x 7”

Размер пластины

от кусочков до 4”

от кусочков до 6”

Разрешение

1 мкм

Точность совмещения

1 мкм

Лампа и источник питания

350 Вт

Длина волны

350 ~ 450 нм

Интенсивность УФ

15 ~ 25 мВт/см2

Однородность УФ-пучка

3 ~ 5 %

Режим контакта

Вакуумный / жесткий / мягкий / приближенный

Микроскоп

Микроскоп с двойным ПЗС зумом

Опции

Антивибрационный стол

ИК обратное совмещение

ПЗС обратное совмещение